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本套配置采用高真空不銹鋼腔體，腔體設置帶擋板的石英觀察窗，便于實驗的觀察記錄；腔體設計真空性能優良，造型小巧，十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計，操作邏輯簡單，操作界面直觀，利于上手。
單靶磁控濺射鍍膜儀技術參數：
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產品名稱 |
桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 |
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產品型號 |
CY-MSZ180-I-RF-SS |
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樣品臺 |
外形尺寸 |
φ100mm |
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加熱溫度 |
≦500℃ |
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可調轉速 |
≦20rpm |
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磁控靶槍 |
配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ180mm X 215mm |
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觀察窗口 |
全向透明 |
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腔體材料 |
SUU304不銹鋼 |
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開啟方式 |
上頂開式 |
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真空系統 |
前級泵 |
低噪音雙極旋片泵 |
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分子泵 |
低噪音大抽速渦輪分子泵 |
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真空測量 |
復合真空計，量程:10-5~105Pa |
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抽氣接口 |
KF16 |
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抽氣接口 |
KF40 |
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排氣接口 |
KF16 |
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系統真空 |
1.0×10-4Pa |
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供電電源 |
AC 220V 50/60Hz |
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抽氣速率 |
分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s |
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電源配置 |
電源數量 |
直流電源一套 |
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輸出功率 |
300W |
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其他參數 |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
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整機功率 |
2kW |
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整機尺寸 |
550mm X 350mm X400mm |
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本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀，經優化設計，結構緊湊，體積較小，特別適合放在實驗桌上使用，可高效節省實驗室的安裝空間。設備配有射頻電源，用于濺射非金屬薄膜，同時具有速度快，溫度低等特點。
