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桌面型鋁合金腔體單靶磁... 桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種緊湊型鍍膜設備，采用磁控濺射技術在基片表面沉積薄膜
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桌面型雙靶磁控濺射鍍膜... 本設備為雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
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桌面型雙靶磁控濺射鍍膜... 本設備為雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備...
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矩形腔室磁控濺射鍍膜儀 矩形腔室磁控濺射鍍膜儀是一種利用磁控濺射技術進行薄膜沉積的高精度設備
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離子源雙靶磁控濺射鍍膜... 離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發的配有兩個靶位的實驗室專用鍍膜儀，設備配有兩臺直流電源，兩臺射頻電源，可用于制備單層...
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桌面型單靶直流磁控濺射... 單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
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四探針薄膜厚度測試儀 四探針測試儀用于半導體、薄膜、導電涂層等材料的電學性能測試。四探針薄膜厚度測試儀核心作用是消除接觸電阻和引線電阻的影響，...
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旋轉粉末磁控濺射鍍膜儀 旋轉粉末磁控濺射鍍膜儀是基于磁控濺射技術的**表面處理設備，通過動態旋轉基片或靶材的設計，結合粉末靶材的濺射特性，實現復...
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臥式高真空三靶磁控濺射... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等
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分體式高真空雙靶磁控濺... 雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛...
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桌面型磁控濺射鍍膜儀上... 磁控濺射鍍膜儀是一種先進的物**相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛...
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桌面型磁控濺射鍍膜儀上... 磁控濺射鍍膜儀是一種先進的物**相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，...
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下置四靶磁控濺射鍍膜儀 四靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜
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桌面型磁控濺射鍍膜儀下... 磁控濺射鍍膜儀是一種先進的物**相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，...
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高真空三靶磁控濺射鍍膜... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛...
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粉末磁控濺射鍍膜儀 粉末磁控濺射鍍膜儀是一種用于在基材表面沉積薄膜的設備，利用磁控濺射技術將粉末狀的靶材轉化為薄膜覆蓋在基材上
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高真空4英寸三靶磁控濺... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等
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D型腔體單靶直流磁控濺... 直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等
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分體式高真空三靶磁控濺... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛...
